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  工程实验室成立于2013年底,是中国标准化研究院授权的应用与研究基地。目前有正/副教授、讲师、实验师等教职人员3人,博士生2人、硕士生8人。

  实验室主要从事薄膜材料的制备、结构和性能的基础性研究,并积极开发它在各方面应用的关键技术和工艺,是河北省功能薄膜材料研究及高层次人才培养的基地。实验室拥有了多种薄膜材料制备设备,微波ECR等离子体化学气相沉积系统、双频RF-CCP/ICP化学气相沉积系统、多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统、双离子束溅射系统等。实验室还拥有多种薄膜材料的结构与性能的检测仪器,红外吸收谱仪、大功率XRD、原子力显微镜、荧光光谱仪、振动样品磁强计、阻抗测试分析仪、表面轮廓仪、磁电阻低温测试台等。

  实验室的主要研究方向是

  1)宇航科技薄膜、微电子、光电子和磁电子薄膜材料的制备、结构与性能。如多孔硅基低介电常数薄膜;高介电常数铁电薄膜;半金属巨磁电阻薄膜;硅基和氧化锌发光薄膜;铁电、磁多层薄膜等。

  2)用于薄膜材料沉积的新型等离子体源。如微波ECR等离子体沉积系统;双频RF-CCP/ICP沉积系统;并列式天线大面积等离子体源等。

  3)薄膜沉积和刻蚀过程和机理研究。如放电等离子体中的各种反应基团的行为和分布;薄膜沉积,团蔟、纳米颗粒的形成机理;器壁对基团和材料合成的效应等。

  4)研究了用直流反应磁控溅射法在无机玻璃基片上制备ITO透明导电膜的工艺,测试了膜的电阻率对可见光的透射率及对垂直入射微波的反射率和透射率.研究反应溅射时氧浓度溅射后退火气氛对电阻率和透光率的影响,ITO膜方块电阻对微波反射率和透射率的影响.

  5)对增光膜光学结构设计背光模组光路设计、辊筒精密加工技术与设备模具表面处理技术、

  扩散膜的光学扩散粒子配方设计、扩散板技术参数及挤出工艺技术的开发研究。1、通过光学膜引导光线的方向,提高面板辉度和控制亮度均匀性;2、尽可能高的光能透过特性,为液晶面板提供均匀的面光源;3、在一定波长范围内(可视光的范围)尽可能为可见白光的特性。 

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